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NXQ4000紫外掩膜對準曝光系統的詳細資料

 

美國NXQ以的性能,經濟的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系統遍布*科研實驗室,研發中心。

 

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統,融合了獨立的模塊化設計,精準控制對準和曝光等特點,自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。

該系統特點:

  • 鍥型誤差補償系統----獨特的WEC設計

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準控制

  • 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

 

使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)

德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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